SRTF-302LP
枚葉式高速熱処理炉
（SRTF: Single Wafer Rapid Thermal Furnace）
※写真はSRTF-200LPになっています。
●結晶スリップは、ゼロ！
●すばらしい均一性と再現性！
●処理能力は、ランプ式高速加熱と同等
●低消費電力：平均１５ｋｗ（１１００℃熱処理にて）
●低メンテナンスコスト！（１回・年）
●消耗品ゼロ！
SRTF-302LP: プロセスチャンバーの概要
●恒温キャビティー環境下に、ことごとく近い
●３ゾーンのブロックで熱コントロール
●ＴＣからのＦｅｅｄｂａｃｋで熱コントロール
●Ｗａｆｅｒは、無回転
●ランプ無し
●高い再現性
SRTF-302LP装置のウエハ昇温特性
●No Wafer Temperature Monitor or Control
●No Ramp Up/Ramp Down Rate Control
●Natural Ramp Up, Stabilization and Ramp Down
（温度冷却時の温度安定がＫＥＹ）
●No Wafer Rotation
●Extremely Repeatable Process
熱処理プロセス中のウエハの一時変形と復元の様子(ダメージはありません。)
SRTF-302LP: Single Wafer Rapid Annealing Furnace
●Single Wafer Annealing under O2
Controlled Environment (100oC~1100oC)
●Dual Chamber Configuration
●No Lamps
●Low Maintenance
●High Repeatability
●High Stability
●Small Footprint
●Low Power Consumption
●Self Contained System
●No Other Facility Required
Key Advantages of Isothermal Process Chamber Design
| ●Simple & High Reliability Design: | → | No wafer rotation & no moving parts |
| ●Extremely Uniform & Repeatable Process: | → | Isothermal cavity stays at process temp. |
| ●Low Power Consumption: | → | <15kW at 1050oC for 2 chambers |
| ●Low Maintenance: | → | MTBF >5,000hrs, annual PM |
| ●Low Cost of Ownership & Consumables: | → | Small footprint & no consumables |
System Layout
Comparisons between RTP Systems
